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股票配资哪个比较好 光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理_nm_整机_全球

发布日期:2025-07-28 23:03    点击次数:128

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光刻机被称为“史上最精密机器”,2024年全球半导体设备销售额1090亿美元,其中光刻机占比24%,为第一大品类。光刻波长从365nm汞灯、248nm KrF、193nm ArF发展到13.5nm EUV,ASML的NXE:3800E率先实现7nm以下工艺,单台售价已超1.9亿欧元。光刻机关键指标包括分辨率、套刻精度、产率与焦深股票配资哪个比较好,整机由曝光光源、投影物镜、双工件台等十余万零部件协同构成,成像质量直接决定芯片微细化水平。

全球市场呈现ASML、Nikon、Canon寡头垄断:ASML占61.2%,EUV为全球唯一供应商;Nikon、Canon主攻中低端KrF、i-line。2024年三大巨头出货683台,销售额264亿美元;中国连续成为ASML最大客户,2024年贡献90亿欧元收入、占比41%,但出口管制导致2025Q1回落至27%。美日荷联合管制升级,国内90nm整机已量产,28nm浸没式正攻关,国产化率仅2.5%,2023年进口225台、金额87.54亿美元,国产替代空间巨大。

国家“02专项”与大基金三期(3440亿元)重点扶持光刻机产业链:上海微电子负责整机集成,长春光机所负责物镜,北京科益虹源转化准分子激光光源,华卓精科突破双工件台;茂莱光学、波长光电、福晶科技、旭光电子等企业在超精密光学、激光晶体、陶瓷材料环节已实现关键技术突破并获下游验证,有望率先受益国产替代加速。

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发布于:北京市

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